化學蒸鍍原理

 

(1)化學蒸鍍原理：

　　熱CVD反應是將各種化學反應物質通入反應爐體內，於高溫的熱能供應作用下，於工件表面形成鍍膜。為使化學反應能夠進行，所加入的熱能主要為提供物種反應所需的能量，使各化學物種有足夠的能量越過活化能障，形成所需的化合物，而在工具模具上的CVD反應所生成的化合物較常見者有TiC、TiN、Ti（CN）、CrC及……等等。電漿化學漿（PCVD）是於300～900℃，10～1000 Pa，以pulse DC的能量產生電漿，通入、、Ar、等氣體進行電漿擴散，於金屬基材內形成擴散層或於表面形成化合物層，增加硬度，以利於抗磨耗摩損。

(2)熱CVD的特點：

　　優點：

可成長非常多種類的薄膜材料。
鍍膜與基材的附著性優良。
可得高級度，高品質鍍膜，鍍膜之結晶性，配向性可控制。
析出速度快，通常為數μm/min至數百μm/min也是可能。
反應製程條件的選擇可容易獲得單層膜，多層膜，分散膜，磊晶膜，厚膜等。
基材的材料及形狀可多樣性、平板、線材、箔、粉末、內管及非常複雜的形狀都可處理。
設備簡單，生產性高，再現性優良。
　

　 缺點：

鍍膜成長溫度高，基材和反應設備的耐熱性，及原料氣體的腐蝕問題須控制。
高溫處理伴隨著基材尺寸變化，基材和鍍膜界面間的殘留熱應力嚴重不容忽視。
活潑性氣體源的使用，製程中的爆炸，毒性等工安險必須特別注意。
反應控制因子多，裝置設計極為重要。
工件局部蒸鍍處理將有困難。
　　

電漿CVD的特點：

製程溫度低，無變形，尺寸精度佳，可局部處理。
鍍膜附著性佳，可處理高負載加工之工具。
繞鍍性不差，可處理孔洞、小穴及複雜形狀之工具。
鍍膜緻密，表面光滑，處理後可保持原有工件之鏡面狀況。